2017/05/08 09:26:37

來源：國家專利局

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　　申請?zhí)?CN201610859126.3

　　申請日2016.09.28

　　公開(公告)號CN106493108A

　　公開(公告)日2017.03.15

　　IPC分類號B08B3/02; B08B3/08; B08B3/12; B08B7/00; B24B1/04

　　申請(專利權(quán))人湖北大禹漢光真空電器有限公司;

　　發(fā)明人王清華;周倜;

　　本發(fā)明提供了一種真空滅弧室的無酸清洗工藝，步驟包括：(1)采用高壓水對真空滅弧室零件進行沖洗;(2)對真空滅弧室零件進行研磨拋光的同時進行清洗;(3)水洗脫水后，將真空滅弧室零件進行真空高溫凈化。該工藝不依賴酸進行清洗，避免了清洗后的化學(xué)制劑難以回收，污染環(huán)境的缺陷，且工藝簡單，后處理方便易于工業(yè)化。